PVD卧式真空蒸发镀膜机工作原理：
在真空室中通过电阻棒进行电阻加热将装在电阻丝上的金属材料(铝丝、铬镍锡等)熔融汽化蒸发，汽化了的金属分子沉积于基材的表面上形成金属化的反射表面，再利用保护膜镀制技术，将液态硅基化合物充入室内，气体离化反应沉积在基材表面，形成保护膜层，以保护金属层不会在大气氧化以及腐蚀，减少高温、紫外线和臭氧对膜层的影响，从而大大提高了金属反射效果的寿命以及耐酸碱能力。
此类的传统工艺方式为在镀膜机里完成镀金属材料工序，再进行装夹在UV喷涂线上，喷上面油进行UV固化形成透明保护作用。设备说明：
PVD蒸发镀铝设备镀制铝膜光亮、细腻、镀膜速度快、、操作简单、设备稳定.膜层牢固，色泽鲜亮，中频离子镀膜机，膜层不易受污染，真空镀膜机，可获得致密性高、纯度高、膜厚均匀的膜层。
真空蒸发镀膜机
A-镀膜室的内表面积，cm2;V-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3
残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，镀膜机，包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4 Pa 压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见，在蒸发镀膜过程中，如果要获得高纯度的膜层，必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率，只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要，因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。
在10-2 Pa～10-4 Pa 压力下蒸发时，膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等，这必将影响制备的膜层质量。因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统，保证膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率，以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染，提高膜层的纯度。
此外，在10-4 Pa 时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上)，水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应，生成氧化物而释放出氢气。因此，为了减少残余气体中的水分，可以提高真空室内的温度，使水分解，也是提高膜层质量的一种有效办法。
还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前，小型真空镀膜机，可先用挡板挡住基片，然后对膜材加热去气。在正式镀膜开始时再移开挡板。利用该方法，可有效提高膜层的质量。
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设备介绍
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