ITO薄膜的特性及用途
ITO薄膜具有复杂的立方铁锰矿结构，其特性主要有：
1）导电性能好（电阻率可低达10-4Ω·cm），带隙宽3.5~4.3eV，载流子浓度（1021cm-3）和电子迁移率（15~45cm2V-1s-1）较高；
2）在可见光波段透过率，镀膜机，可达85%以上；
3）对紫外线的吸收率较高，可达85%以上；
4）对红外线具有反射性，反射率高于80%；
5）对微波具有衰减性，中频离子镀膜机，衰减率可达85%以上；
6）膜层硬度高，耐磨，二手真空镀膜机，耐化学腐蚀（等除外）；
7）膜层具有很好的酸刻、光刻性能，便于细微加工，可以被刻蚀成不同的电图案。
随着显示器件行业的飞速发展，对ITO薄膜的产品性能特性提出了新的要求。同时ITO薄膜制备技术的深入发展，使显示器件的需要变成可能。不同性能的ITO薄膜可以在不同显示器件中的应用。
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用高能粒子轰击固体表面，固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子具有一定的能量，它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜，称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材击出阴极靶材的原子或分子，飞向被镀基片表面沉积成薄膜。
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设备参数：型号ZCCA-1820真空室尺寸Ф1800×H2000mm制膜种类金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等电源类型直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源靶类型多弧靶，选配中频孪生柱靶或平面靶真空室结构立式前开门结构（双层水套式或水槽式冷却）、后置抽气系统真空系统机械泵＋罗茨泵＋扩散泵/分子泵＋维持泵加热系统常温至350度可调可控（PID控温），不绣钢加热管加热充气系统质量流量控制仪（1-4路）极限真空6×10-4pa（空载、净室）（Empty， clean room）抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟保压率1h≤0.6pa工件旋转方式上旋转或下旋转＋公自转变频无级可控可调，0-20转/分控制方式手动＋半自动/触摸屏＋PLC备注真空室尺寸机机组配置可按客户产品及特殊工艺要求订做 
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